当地时间12月21日，荷兰光刻机大厂ASML经过社会化媒体X渠道宣告，其首套High-NA EUV光刻机正从荷兰Veldhoven总部开端装车发货，将向英特尔进行交给。

  ASML在声明中称：“咱们很快乐、也很骄傲，可以向英特尔交给咱们的第一个高数值孔径 EUV 体系。”

  自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm、5nm、3nm工艺，台积电的第二代7nm、5nm、3nm工艺的量产都是依赖于0.33 数值孔径（NA）的EUV光刻机来进行出产，该类型光刻机的分辨率可以到达8nm。

  现在，跟着三星、台积电、英特尔3nm制程的相继量产，现在这三大先进制程制造厂商都在活跃出资2nm制程及更先进的埃米级制程的研制，以满意未来高性能核算等先进芯片需求，并在晶圆代工商场的竞赛傍边获得优势。而2nm及以下的顶级工艺的完成则在大多数情况下要依赖于ASML新一代的0.55数值孔径 (High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列。

  相对于0.33 NA的EUV光刻机来说，装备0.55 NA透镜的High-NA EUV光刻机的分辨率可以到达更高的8nm分辨率，一起设备的体积也更大，各类组件装在250个独自的板条箱中运送，这中心还包含13 个大型集装箱，拼装后的High-NA EUV光刻机将比货车还要大，本钱也更是高达3亿至4亿美元。

  英特尔于 2022 年率先向ASML订货了第一台High-NA EUV光刻机，其他已订货High-NA EUV光刻机的芯片制造商还包含台积电、三星、SK 海力士和美光。

  依据规划，英特尔将在2024年上半年量产Intel 20A制程，下半年将量产更先进的Intel 18A制程。台积电、三星都将在2025年量产2nm制程。

  英特尔此前曾表明，首套High-NA EUV曝光机将用于学习怎么样出产Intel 18A先进制程，有望使英特尔抢先对手台积电和三星。因High-NA EUV曝光机与规范EUV光刻机差异不小，需很多批改基础设施，提高运用经历，故抢先对手几季布置对英特尔是很大优势。